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昂成精密儀器(深圳)有限公司
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離子源系統(tǒng)總成:包括刻蝕離子源、沉積源和輔助源，應(yīng)用于離子束刻蝕設(shè)備、離子束濺射鍍膜設(shè)備和電子槍蒸發(fā)鍍膜設(shè)備 。 檢測(cè)設(shè)備、分析設(shè)備和測(cè)量設(shè)備：廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、電子、汽車、醫(yī)療等領(lǐng)域。 半導(dǎo)體器件專用設(shè)備：包括半導(dǎo)體分立器件制造和銷售。 |
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| 半導(dǎo)體與電子、光學(xué) |
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